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光刻技术是半导体芯片制造的核心工艺，决定芯片的集成精度与性能上限。通过精准的光学投射、曝光、蚀刻工序，将精密电路图案复刻至晶圆表面，构建芯片的电路架构。光刻的精度直接影响芯片的晶体管密度、运算效率与功耗控制，精度越高，芯片集成度越强，性能越优越。光刻工艺对设备、光源、环境洁净度要求极高，是半导体产业中技术壁垒最高、精度最严苛的核心环节。

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